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半導體廢水處理設備

半導體廢水處理設備，目前，沉淀法、離子交換法和氧化法是處理半導體廢水的有效手段。

訪問次數(shù)：2707    產(chǎn)品價格：面議    廠商性質(zhì)：生產(chǎn)廠家    更新日期：2025-05-28

光伏廢水處理 工業(yè)廢水處理設備

光伏廢水處理應用于醫(yī)藥、農(nóng)藥、化工等行業(yè)去除生物毒性，提高廢水的可生化性。高含鹽廢水的TOC/COD去除，降低蒸發(fā)設備故障率，提高產(chǎn)鹽的資源回收率。

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有機氟廢水處理設備

有機氟廢水處理設備見含氟廢水的處理方法包括：活性炭吸附、離子交換、反滲透、氟化鎂沉淀法、生物處理和氧化法等。

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精細化工廢水處理

精細化工廢水處理來源于工藝廢水、輔助設備廢水以及沖洗廢水。其中工藝廢水是在這3種廢水當中最難處理水，其不僅污染物濃度高（有機物、氨氮、無機鹽等），而且構(gòu)成成分復雜、可生化性差、降解難度高。

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煤化工廢水處理

煤化工廢水處理采用超聲波氧化、芬頓氧化、光芬頓氧化等高級氧化技術(shù)進行預處理。芬頓氧化是利用Fe2+與H2O2互相反應得到強氧化性的羥基自由基，將廢水中的難降解有機物加以降解的技術(shù)。

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化學制藥廢水

化學制藥廢水,制藥廢水預處理,制藥廢水深度處理是一類相對特殊的水，其主要有以下特點：1）濃度高，廢水中殘余的反應物、生成物、溶劑、COD等含量高。2）化學合成反應的副產(chǎn)物多，無機鹽含量高。pH值變化大，如果采用中和反應的話，消耗酸堿量大，成本高；如果采用萃取或提煉的方法，工藝流程復雜。廢水成分復雜，具有生物毒性，難降解等。

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母液預處理

母液預處理,蒸發(fā)結(jié)晶預處理因具有高鹽分、高COD、焦油、粘壁等特點，其有效去除一直是水處理方面面臨的難題。目前針對高鹽廢水的處理技術(shù)主要有多效蒸發(fā)和MVR 等。

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工業(yè)廢水預處理

工業(yè)廢水預處理是在一級處理 之前廢水的任何處理過程，如格柵、篩網(wǎng)、粉碎、撇渣 、油脂去除、除砂、預曝氣、均化、pH值調(diào)節(jié)等過程.。

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半導體超純水說明

半導體超純水說明主要用于生產(chǎn)超純水過程中去除TOC有機物，降低TOC出水指標，使出水滿足美國ASTM超純水水質(zhì)標準及電子工業(yè)部電子級水水質(zhì)標準。

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光化學高級氧化

光化學高級氧化，光化學已經(jīng)深入了各領(lǐng)域的高級氧化應用，包括電子行業(yè)超純水TOC降解，自來水中微污染有機物去除，污水處理廠提標改造及深度處理，高難有機廢水預處理等。其中過臭氧光催化氧化技術(shù)更多應用于污水處理廠預處理及深度處理；而光芬頓技術(shù)因反映效率高（均相反應）、反應條件溫和（常溫常壓），應用范圍廣（COD適用范圍廣），在各行業(yè)高難有機廢水處理中有著廣闊的應用前景。$n$n?

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光化學工業(yè)水處理

光化學工業(yè)水處理應用于醫(yī)藥、農(nóng)藥、化工等行業(yè)去除生物毒性，提高廢水的可生化性。高含鹽廢水的TOC/COD去除，降低蒸發(fā)設備故障率，提高產(chǎn)鹽的資源回收率。

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光化學水處理

光化學高級氧化,光化學水處理：光化學是研究物質(zhì)吸收光子后，分子層面發(fā)生的化學變化，包括電子、原子、分子在基態(tài)和激發(fā)態(tài)的轉(zhuǎn)變，理化性質(zhì)變化及其引發(fā)的鏈反應。安力斯光化學工業(yè)水處理技術(shù)是研究水處理凈化過程中，有機物或無機物目標分子在100-700nm光子的激發(fā)下所發(fā)生的化學反應。

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光催化高級氧化介紹

光催化高級氧化介紹技術(shù)原理：在紫外線激發(fā)下H2O2可產(chǎn)生具有很強氧化性的羥基自由基，可將有機污染物最終礦化為CO和H2O，其中間產(chǎn)物具有較多含氧官能團， 有效提高了廢水的可生化性。

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紫外線消毒器設備

紫外線消毒器設備占地面積小，系統(tǒng)結(jié)構(gòu)緊湊，潛在風險小，確保操作人員安全。系統(tǒng)的安裝十分簡便，不會對工廠的正常生產(chǎn)造成干擾，所需要的維護工作簡便，相比于其他的飲用水深度處理工藝有著顯著的優(yōu)勢

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半導體超純水設備

半導體超純水設備主要用于生產(chǎn)超純水過程中去除TOC有機物，降低TOC出水指標，使出水滿足美國ASTM超純水水質(zhì)標準及電子工業(yè)部電子級水水質(zhì)標準。

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